岳陽代寫穩定回報論證報告 鎮海蛟川北區棚戶區改造三期ABCD地塊
（1）當前國際形勢復雜，我國必須形成自主可控的集成電路關鍵材料的產業化能力
當前國際形勢十分復雜，中美貿易戰的影響日益深遠，對我國高精尖產業發展及工業化進程造成了一定的阻礙。目前高端集成電路材料的核心產業化技術仍掌握在國外企業手中，大部分市場份額仍被外企所占據。目前不少集成電路用關鍵材料已經成為我國“卡脖子”的技術領域，如果我國仍未形成自己的產業化能力，在國際環境日益嚴峻的情況下，未來要想形成該領域的國產化，將付出更大的代價。實施“集成電路制造用高端光刻膠研發項目”能夠疏通行業“閉塞”的產業環境，對振興國內半導體材料產業，促進產品升級換代具有重要意義。
（2）作為半導體領域技術壁壘最高的材料之一，光刻膠國產化任重道遠
光刻膠生產工藝復雜，技術壁壘較高，長年被日本、歐美企業壟斷，目前前五大廠商占據了全球光刻膠市場87%的份額，行業集中度較高。我國光刻膠行業發展起步較晚，生產能力主要集中于PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產品，而TFT-LCD、半導體光刻膠等高端產品仍需大量進口。半導體光刻膠是光刻膠中最高端的組成部分，作為集成電路生產過程中的重要一環，對我國集成電路發展具有重要意義。近年來在市場拉動和政策支持下，我國集成電路產業整體實力顯著提升，對上游材料的需求也快速增長，但受制于我國光刻膠技術發展水平，目前適用于6英寸硅片的g線、i線光刻膠的自給率約為20%，適用于8英寸硅片的KrF光刻膠的自給率不足5%，而適用于12寸硅片的ArF光刻膠基本依靠進口，光刻膠國產化任重道遠。
2、投資項目的可行性
（1）具有良好的技術基礎
本公司量產光刻膠近30年，組建了國內領先的光刻膠研發團隊，具有豐富的光刻膠研發和生產經驗。公司先后承擔了國家“85”攻關、“863”重大專項、科技部創新基金等科技項目，并承擔了上一期國家02重大專項光刻膠研發項目，2018年圓滿完成了該02重大專項中的i線光刻膠子項研發任務，順利通過國家驗收，i線光刻膠產品已正常供應中芯國際等代表性的半導體企業使用。目前公司完成中試的KrF（248nm）光刻膠也已進入客戶測試階段，達到0.15μm的分辨率。此外，公司在2016年與日本三菱化學株式會社在蘇州設立了LCD用彩色光刻膠共同研究所，為三菱化學的彩色光刻膠在國內的檢測以及中國國內客戶評定檢測服務，并于2019年開始批量生產供應顯示面板廠家。
（2）具備知識產權基礎
本公司已獲授權發明專利39項，其中有16項光刻膠相關的發明專利已獲授權，主要有一種聚氨酯丙烯酸酯共聚物及其光刻膠組合物、一種馬來酸酐開環改性支化低聚物制備的堿溶性光敏樹脂及其光致抗蝕劑組合物、一種基于RAFT聚合法制備248深紫外光刻膠成膜樹脂等。累計開發十多個新產品系列，并都已得到大型半導體客戶的批量應用。其中，“新型正性光刻膠”，“新型負性光刻膠”，“光刻膠剝離液”等5項產品被認定為“江蘇省高新技術產品”。
（3）優質客戶資源基礎
華虹半導體、長鑫存儲等國內主流的集成電路制造商是公司客戶，已成為公司戰略合作伙伴。2020年6月，蘇州瑞紅與合肥長鑫于“長三角一體化發展重大合作事項簽約儀式”上簽署光刻膠相關合作協議。未來公司將聯合華虹半導體、長鑫存儲等下游客戶共同推進高端光刻膠產品研發和應用。依托國內半導體制造龍頭企業一流的技術和管理，取得他們的驗證認可，具有較強的代表性、較高的可信度和權威性，對公司未來產品的市場推廣和國產化替代有至關重要的推進作用。
1、投資項目的必要性
（1）當前國際形勢復雜，我國必須形成自主可控的集成電路關鍵材料的產業化能力
當前國際形勢十分復雜，中美貿易戰的影響日益深遠，對我國高精尖產業發展及工業化進程造成了一定的阻礙。目前高端集成電路材料的核心產業化技術仍掌握在國外企業手中，大部分市場份額仍被外企所占據。目前不少集成電路用關鍵材料已經成為我國“卡脖子”的技術領域，如果我國仍未形成自己的產業化能力，在國際環境日益嚴峻的情況下，未來要想形成該領域的國產化，將付出更大的代價。實施“集成電路制造用高端光刻膠研發項目”能夠疏通行業“閉塞”的產業環境，對振興國內半導體材料產業，促進產品升級換代具有重要意義。
（2）作為半導體領域技術壁壘最高的材料之一，光刻膠國產化任重道遠
光刻膠生產工藝復雜，技術壁壘較高，長年被日本、歐美企業壟斷，目前前五大廠商占據了全球光刻膠市場87%的份額，行業集中度較高。我國光刻膠行業發展起步較晚，生產能力主要集中于PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產品，而TFT-LCD、半導體光刻膠等高端產品仍需大量進口。半導體光刻膠是光刻膠中最高端的組成部分，作為集成電路生產過程中的重要一環，對我國集成電路發展具有重要意義。近年來在市場拉動和政策支持下，我國集成電路產業整體實力顯著提升，對上游材料的需求也快速增長，但受制于我國光刻膠技術發展水平，目前適用于6英寸硅片的g線、i線光刻膠的自給率約為20%，適用于8英寸硅片的KrF光刻膠的自給率不足5%，而適用于12寸硅片的ArF光刻膠基本依靠進口，光刻膠國產化任重道遠。
