酒泉代寫融資計劃書 桃花南路九洲高架-昌南大道快速化改造工程
1、投資項目的必要性
（1）當前國際形勢復雜，我國必須形成自主可控的集成電路關鍵材料的產(chǎn)業(yè)化能力
當前國際形勢十分復雜，中美貿(mào)易戰(zhàn)的影響日益深遠，對我國高精尖產(chǎn)業(yè)發(fā)展及工業(yè)化進程造成了一定的阻礙。目前高端集成電路材料的核心產(chǎn)業(yè)化技術仍掌握在國外企業(yè)手中，大部分市場份額仍被外企所占據(jù)。目前不少集成電路用關鍵材料已經(jīng)成為我國“卡脖子”的技術領域，如果我國仍未形成自己的產(chǎn)業(yè)化能力，在國際環(huán)境日益嚴峻的情況下，未來要想形成該領域的國產(chǎn)化，將付出更大的代價。實施“集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目”能夠疏通行業(yè)“閉塞”的產(chǎn)業(yè)環(huán)境，對振興國內(nèi)半導體材料產(chǎn)業(yè)，促進產(chǎn)品升級換代具有重要意義。
（2）作為半導體領域技術壁壘最高的材料之一，光刻膠國產(chǎn)化任重道遠
光刻膠生產(chǎn)工藝復雜，技術壁壘較高，長年被日本、歐美企業(yè)壟斷，目前前五大廠商占據(jù)了全球光刻膠市場87%的份額，行業(yè)集中度較高。我國光刻膠行業(yè)發(fā)展起步較晚，生產(chǎn)能力主要集中于PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產(chǎn)品，而TFT-LCD、半導體光刻膠等高端產(chǎn)品仍需大量進口。半導體光刻膠是光刻膠中最高端的組成部分，作為集成電路生產(chǎn)過程中的重要一環(huán)，對我國集成電路發(fā)展具有重要意義。近年來在市場拉動和政策支持下，我國集成電路產(chǎn)業(yè)整體實力顯著提升，對上游材料的需求也快速增長，但受制于我國光刻膠技術發(fā)展水平，目前適用于6英寸硅片的g線、i線光刻膠的自給率約為20%，適用于8英寸硅片的KrF光刻膠的自給率不足5%，而適用于12寸硅片的ArF光刻膠基本依靠進口，光刻膠國產(chǎn)化任重道遠。
2、投資項目的可行性
（1）具有良好的技術基礎
本公司量產(chǎn)光刻膠近30年，組建了國內(nèi)領先的光刻膠研發(fā)團隊，具有豐富的光刻膠研發(fā)和生產(chǎn)經(jīng)驗。公司先后承擔了國家“85”攻關、“863”重大專項、科技部創(chuàng)新基金等科技項目，并承擔了上一期國家02重大專項光刻膠研發(fā)項目，2018年圓滿完成了該02重大專項中的i線光刻膠子項研發(fā)任務，順利通過國家驗收，i線光刻膠產(chǎn)品已正常供應中芯國際等代表性的半導體企業(yè)使用。目前公司完成中試的KrF（248nm）光刻膠也已進入客戶測試階段，達到0.15μm的分辨率。此外，公司在2016年與日本三菱化學株式會社在蘇州設立了LCD用彩色光刻膠共同研究所，為三菱化學的彩色光刻膠在國內(nèi)的檢測以及中國國內(nèi)客戶評定檢測服務，并于2019年開始批量生產(chǎn)供應顯示面板廠家。
（2）具備知識產(chǎn)權(quán)基礎
本公司已獲授權(quán)發(fā)明專利39項，其中有16項光刻膠相關的發(fā)明專利已獲授權(quán)，主要有一種聚氨酯丙烯酸酯共聚物及其光刻膠組合物、一種馬來酸酐開環(huán)改性支化低聚物制備的堿溶性光敏樹脂及其光致抗蝕劑組合物、一種基于RAFT聚合法制備248深紫外光刻膠成膜樹脂等。累計開發(fā)十多個新產(chǎn)品系列，并都已得到大型半導體客戶的批量應用。其中，“新型正性光刻膠”，“新型負性光刻膠”，“光刻膠剝離液”等5項產(chǎn)品被認定為“江蘇省高新技術產(chǎn)品”。
（3）優(yōu)質(zhì)客戶資源基礎
華虹半導體、長鑫存儲等國內(nèi)主流的集成電路制造商是公司客戶，已成為公司戰(zhàn)略合作伙伴。2020年6月，蘇州瑞紅與合肥長鑫于“長三角一體化發(fā)展重大合作事項簽約儀式”上簽署光刻膠相關合作協(xié)議。未來公司將聯(lián)合華虹半導體、長鑫存儲等下游客戶共同推進高端光刻膠產(chǎn)品研發(fā)和應用。依托國內(nèi)半導體制造龍頭企業(yè)一流的技術和管理，取得他們的驗證認可，具有較強的代表性、較高的可信度和權(quán)威性，對公司未來產(chǎn)品的市場推廣和國產(chǎn)化替代有至關重要的推進作用。
1、投資項目的必要性
（1）當前國際形勢復雜，我國必須形成自主可控的集成電路關鍵材料的產(chǎn)業(yè)化能力
當前國際形勢十分復雜，中美貿(mào)易戰(zhàn)的影響日益深遠，對我國高精尖產(chǎn)業(yè)發(fā)展及工業(yè)化進程造成了一定的阻礙。目前高端集成電路材料的核心產(chǎn)業(yè)化技術仍掌握在國外企業(yè)手中，大部分市場份額仍被外企所占據(jù)。目前不少集成電路用關鍵材料已經(jīng)成為我國“卡脖子”的技術領域，如果我國仍未形成自己的產(chǎn)業(yè)化能力，在國際環(huán)境日益嚴峻的情況下，未來要想形成該領域的國產(chǎn)化，將付出更大的代價。實施“集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目”能夠疏通行業(yè)“閉塞”的產(chǎn)業(yè)環(huán)境，對振興國內(nèi)半導體材料產(chǎn)業(yè)，促進產(chǎn)品升級換代具有重要意義。
（2）作為半導體領域技術壁壘最高的材料之一，光刻膠國產(chǎn)化任重道遠
光刻膠生產(chǎn)工藝復雜，技術壁壘較高，長年被日本、歐美企業(yè)壟斷，目前前五大廠商占據(jù)了全球光刻膠市場87%的份額，行業(yè)集中度較高。我國光刻膠行業(yè)發(fā)展起步較晚，生產(chǎn)能力主要集中于PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產(chǎn)品，而TFT-LCD、半導體光刻膠等高端產(chǎn)品仍需大量進口。半導體光刻膠是光刻膠中最高端的組成部分，作為集成電路生產(chǎn)過程中的重要一環(huán)，對我國集成電路發(fā)展具有重要意義。近年來在市場拉動和政策支持下，我國集成電路產(chǎn)業(yè)整體實力顯著提升，對上游材料的需求也快速增長，但受制于我國光刻膠技術發(fā)展水平，目前適用于6英寸硅片的g線、i線光刻膠的自給率約為20%，適用于8英寸硅片的KrF光刻膠的自給率不足5%，而適用于12寸硅片的ArF光刻膠基本依靠進口，光刻膠國產(chǎn)化任重道遠。
